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extreme ultraviolet lithography | Extreme Ultraviolet Lithography | EUV-Lithografie

| Redakteur: Gerald Viola

Die EUV-Lithografie (Extreme Ultraviolet Lithography - EUVL) ist eine fortschrittliche Technologie für die der Herstellung von Mikroprozessoren, die Hundertmal leistungsfähiger als

Die EUV-Lithografie (Extreme Ultraviolet Lithography - EUVL) ist eine fortschrittliche Technologie für die der Herstellung von Mikroprozessoren, die Hundertmal leistungsfähiger als die heutigen Prozessoren sind. Intel, AMD und Motorola haben sich mit dem US Department of Energy in einem dreijährigen Projekt zusammengeschlossen, um einen Mikrochip mit einer Maske mit einer Breite von unter 0.1 Mikron zu entwickeln. (Die heutigen Schaltkreise haben in der Regel eine Breite von 0.18 Mikron oder mehr.) Ein Mikroprozessor mit der EUVL-Technologie wäre Hundertmal leistungsfähiger als ein heutiger Computer. Die Speicherchips könnten 1000mal mehr Information speichern als heute.

EUVL ist eine Technologie, die sich als Ersatz für die optische Lithografie anbietet, mit deren Hilfe die heutigen Mikroschaltkreise hergestellt werden. Sie funktioniert, indem starke Strahlungen ultravioletten Lichts, die vom Muster des Schaltkreislayouts reflektiert werden, in ein Silizium-Wafer gebrannt werden. EUVL ähnelt der optischen Lithografie, in der das Licht durch Kameralinsen auf das Wafer abgelenkt wird. Allerdings hat das extreme ultraviolette Licht, das mit einer anderen Wellenlänge arbeitet, andere Eigenschaften und muss durch Spiegel rückgestrahlt, statt durch eine Linse abgelenkt zu werden. Die Herausforderung besteht darin, einen Spiegel zu bauen, der perfekt genug ist, um das Licht mit ausreichender Präzision zu reflektieren. Intel arbeitet an frühen Prototypen. In der Zwischenzeit wird die optische Lithografie in den nächsten Jahren weiterhin Fortschritte machen, bis sie durch neuere Technologien wie EUVL ersetzt wird.

(ID:2021157)